带环形整体式音梁的阮
一种带环形整体式音梁的阮，包括共鸣箱，该共鸣箱包括面板、底板和侧板；面板的下表面设有上桥式音梁，呈环状架设于面板的下表面中央；面板的下表面上还设有四条上沟槽，且各上沟槽呈十字形排布，将位于上桥式音梁外侧的面板表面划分成四块上部共鸣区域；各上沟槽在水平方向上均横穿上桥式音梁，并以长度方向与上桥式音梁垂直；上沟槽凹设于面板的下表面形成音隧。本实用新型将阮的面板由以往的自由振动模式改变为现在的规范振动模式，从振动、共鸣、发声的角度解决了阮高音区亮不出来，而低音区浑厚圆润不够的问题，具有突出的实质性特点和显著的技术进步。
实用新型
CN202021739875.0
2020-08-19
CN212434226U
2021-01-29
G10D1/04(2020.01)
苏州礼乐乐器股份有限公司
金海鸥;吴念博;何新喜;朱信智;李碧英;杨萍
215000 江苏省苏州市吴中区胥口镇灵山路505号香山工坊展示馆
苏州创元专利商标事务所有限公司
马明渡%陈昊宇
江苏;32
1.一种带环形整体式音梁的阮，其特征在于： 包括共鸣箱，该共鸣箱包括面板（1）、底板（2）和侧板； 所述面板（1）的下表面架设有一上桥式音梁（4），该上桥式音梁（4）呈环状，架设于所述面板（1）的下表面中央； 所述面板（1）的下表面上还设有四条上沟槽（6），且各所述上沟槽（6）以面板（1）水平方向的中心为基准呈十字形排布，进而将位于所述上桥式音梁（4）外侧的面板（1）表面划分成四块上部共鸣区域（1a）；各上沟槽（6）在水平方向上均横穿上桥式音梁（4），并以上沟槽（6）的长度方向与上桥式音梁（4）垂直； 其中，所述上沟槽（6）凹设于所述面板（1）的下表面形成音隧。 2.根据权利要求1所述的带环形整体式音梁的阮，其特征在于： 所述底板（2）的上表面架设有一下桥式音梁（5），该下桥式音梁（5）呈环状，架设于所述底板（2）的上表面中央； 所述底板（2）的上表面上还设有四条下沟槽（7），且各所述下沟槽（7）以底板（2）水平方向的中心为基准呈十字形排布，进而将位于所述下桥式音梁（5）外侧的底板（2）表面划分成四块下部共鸣区域（2a）；各下沟槽（7）在水平方向上均横穿下桥式音梁（5），并以下沟槽（7）的长度方向与下桥式音梁（5）垂直； 其中，所述下沟槽（7）凹设于所述底板（2）的上表面形成音隧。 3.根据权利要求2所述的带环形整体式音梁的阮，其特征在于：所述上桥式音梁（4）和所述下桥式音梁（5）在上下方向上对位设置。 4.根据权利要求1所述的带环形整体式音梁的阮，其特征在于：所述面板（1）从发音频段区分为外围的高音区、中段的中音区以及中心的低音区； 其中，所述面板（1）壁厚由外至内逐渐增厚，构成低音区的壁厚大于中音区的壁厚，中音区的壁厚大于高音区的壁厚； 所述上桥式音梁（4）位于所述低音区。 5.根据权利要求2所述的带环形整体式音梁的阮，其特征在于：所述底板（2）从发音频段区分为外围的高音区、中段的中音区以及中心的低音区； 其中，所述底板（2）壁厚由外至内逐渐增厚，构成低音区的壁厚大于中音区的壁厚，中音区的壁厚大于高音区的壁厚； 所述下桥式音梁（5）位于所述低音区。 6.根据权利要求2所述的带环形整体式音梁的阮，其特征在于：所述上桥式音梁（4）、所述下桥式音梁（5）的内端厚度均大于外端厚度。 7.根据权利要求2所述的带环形整体式音梁的阮，其特征在于：所述上沟槽（6）及所述下沟槽（7）均为弧形槽。 8.根据权利要求2所述的带环形整体式音梁的阮，其特征在于：所述上沟槽（6）的长度小于所述面板（1）的宽度，所述下沟槽（7）的长度小于所述底板（2）的宽度； 所述上沟槽（6）的外端与面板（1）的下表面之间均设置有圆滑过渡面；所述下沟槽（7）的外端与底板（2）的上表面之间均设置有圆滑过渡面。 9.根据权利要求1所述的带环形整体式音梁的阮，其特征在于：所述上桥式音梁（4）的底部设有上桥洞（3），该上桥洞（3）在上桥式音梁（4）的宽度方向贯穿设置，且上桥洞（3）的下方敞口对应所述上沟槽（6）。 10.根据权利要求2所述的带环形整体式音梁的阮，其特征在于：所述下桥式音梁（5）的底部设有下桥洞（8），该下桥洞（8）在下桥式音梁（5）的宽度方向贯穿设置，且下桥洞（8）的下方敞口对应所述下沟槽（7）。