一种亚分辨率辅助图形的获取方法
本发明公开一种亚分辨率辅助图形的获取方法,其至少包括以下步骤:提供一集成电路版图,所述集成电路版图包括多个第一图形及第一亚分辨率辅助图形;对所述第一图形进行光学邻近修正,获得多个第二图形;将所述第一亚分辨率辅助图形沿垂直于所述第二图形的方向分割为多个子图形,获得第二亚分辨率辅助图形,其中相邻所述子图形间设有第一距离;将所述子图形向所述第二图形移动第二距离,获取所述第二图形光学模型的模拟轮廓相对于所述第一图形的最小边缘位置放置误差;通过所述最小边缘位置放置误差,获得最优第二亚分辨率辅助图形。本发明解决了亚分辨率辅助图形易被曝光显影到基底上,从而降低产品良率的问题。
发明专利
CN202011069768.6
2020-10-09
CN111983887A
2020-11-24
G03F1/36(2012.01)
南京晶驱集成电路有限公司
赵广;罗招龙;朱安康;刘秀梅;王康
210000 江苏省南京市栖霞区迈皋桥创业园科技研发基地寅春路18号-H1105
上海光华专利事务所(普通合伙)
朱艳
江苏;32
1.一种亚分辨率辅助图形的获取方法,其特征在于,其至少包括以下步骤: 提供一集成电路版图,所述集成电路版图包括多个第一图形及第一亚分辨率辅助图形;所述多个第一亚分辨率辅助图形布置在所述多个第一图形外围,所述第一亚分辨率辅助图形与所述第一图形之间具有一最小间距; 对所述第一图形进行光学邻近修正,获得多个第二图形; 将所述第一亚分辨率辅助图形沿垂直于所述第二图形的方向分割为多个子图形,获得第二亚分辨率辅助图形,其中相邻所述子图形间设有第一距离; 将所述子图形向所述第二图形移动第二距离,获取所述第二图形光学模型的模拟轮廓相对于所述第一图形的边缘位置放置误差; 调整所述第一距离和所述第二距离,获取所述第二图形光学模型的模拟轮廓相对于所述第一图形的最小边缘位置放置误差; 通过所述最小边缘位置放置误差,获得最优第二亚分辨率辅助图形。 2.根据权利要求1所述一种亚分辨率辅助图形的获取方法,其特征在于,所述第二图形光学模型的模拟轮廓相对于所述第一图形在水平方向上存在第一误差,所述第二图形光学模型的模拟轮廓相对于所述第一图形在垂直方向上存在第二误差。 3.根据权利要求1所述一种亚分辨率辅助图形的获取方法,其特征在于,所述第二亚分辨率辅助图形包括两个子图形。 4.根据权利要求1所述一种亚分辨率辅助图形的获取方法,其特征在于,所述第一亚分辨率辅助图形为矩形,所述子图形为沿所述矩形的长边进行分割。 5.根据权利要求3所述一种亚分辨率辅助图形的获取方法,其特征在于,所述第一距离的调整范围为0至所述第一亚分辨率辅助图形的长边的长度。 6.根据权利要求4所述一种亚分辨率辅助图形的获取方法,其特征在于,所述第一距离的调整间隔为0至所述第一亚分辨率辅助图形的长边的长度。 7.根据权利要求1所述一种亚分辨率辅助图形的获取方法,其特征在于,所述第二距离的调整范围为0至所述第一亚分辨率辅助图形距第二图形的距离。 8.根据权利要求6所述一种亚分辨率辅助图形的获取方法,其特征在于,所述第二距离的调整间隔为0至所述第一亚分辨率辅助图形距第二图形的距离。 9.根据权利要求2所述一种亚分辨率辅助图形的获取方法,其特征在于,依据所述第一距离和所述第二距离,获取所述第一误差和所述第二误差。 10.根据权利要求2所述一种亚分辨率辅助图形的获取方法,其特征在于,依据所述第一误差和所述第二误差的均方根,获得最小边缘位置放置误差。