一种实现液态工质均匀铺展的装置
本实用新型涉及流体导流技术领域，公开了一种实现液态工质均匀铺展的装置，包括底座、分别与底座的两端贯通的入管和排出管、所述底座上与入管贯通连接的一端设有与入管贯通的入口液池、均匀开设在底座顶面上的微槽，所述入口液池的顶面通过螺栓螺纹固定有盖板，所述盖板全覆盖入口液池，并且覆盖一部分微槽。本实用新型通过微槽道对液体或者金属粉末起导流作用，有助于液体或者金属粉末在底座的表面形成均匀铺展和稳定流动，同时漏斗形出口可以加快液体或者金属粉末流出装置，以免在装置内部形成淤积，改变了传统的通过平板导流的结构不具备分流功能，并且流体以及金属粉末流入平板表面之后不能均匀铺展，以致无法控制形成的液膜厚度的弊端。
实用新型
CN201922404602.4
2019-12-27
CN211314743U
2020-08-21
F15D1/00(2006.01)
中国科学院大学
王增辉;雷天扬;倪明玖
100043 北京市石景山区玉泉路19号(甲)
北京盛凡智荣知识产权代理有限公司
张塨
北京;11
1.一种实现液态工质均匀铺展的装置，其特征在于：包括底座(6)、分别与底座(6)的两端贯通的入管(1)和排出管(8)、所述底座(6)上与入管(1)贯通连接的一端开设有与入管(1)贯通的入口液池(2)、所述底座(6)上与排出管(8)贯通连接的一端开设有与排出管(8)贯通的漏斗(7)、均匀开设在底座(6)顶面上的微槽道(5)，所述入口液池(2)的顶面通过螺栓(3)与底座(6)螺纹固定有盖板(4)，所述盖板(4)全覆盖入口液池(2)，并且覆盖一部分微槽道(5)。 2.根据权利要求1所述的一种实现液态工质均匀铺展的装置，其特征在于：所述入口液池(2)呈正三角状。 3.根据权利要求1所述的一种实现液态工质均匀铺展的装置，其特征在于：所述漏斗(7)的开口水平面低于微槽道(5)的高度。 4.根据权利要求2所述的一种实现液态工质均匀铺展的装置，其特征在于：所述入口液池(2)的宽度与底座(6)上开设的微槽道(5)的宽度一致。 5.根据权利要求1所述的一种实现液态工质均匀铺展的装置，其特征在于：所述底座(6)顶面上的微槽道(5)、入口液池(2)和漏斗(7)均与底座一体成型。 6.根据权利要求1所述的一种实现液态工质均匀铺展的装置，其特征在于：所述微槽道(5)表面的材质选用无磁性的316L型不锈钢，所述微槽道(5)之间的间距一致，微槽道(5)的宽度和深度均为0.1mm-5mm。