一次曝光实现任意分布的光取向装置

摘要：

本实用新型公开了一次曝光实现任意分布的光取向装置，包括在空间上顺序摆放的光源、线性极化膜、像素化电控相位延迟器件和相位延迟波片，光源用于提供光取向曝光所需的光；线性极化膜用于将光源发出的光变成极化方向与线性极化膜透光轴方向平行的线性极化光；像素化电控相位延迟器件的每个像素的相位延迟由对应的电压分别控制，用于产生任意图形分布的相位延迟；相位延迟片用于产生非像素化的相位延迟。本实用新型通过设计线性极化膜、像素化电控相位延迟器件、相位延迟波片的相对光轴方向，和各个相位延迟器件的相位延迟值，可以生成任意形状的极化图，并在极化敏感介质上形成相应的排列轮廓。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN201820881217.1

申请日期：2018-06-07

公开/公告号：CN208636625U

公开/公告日：2019-03-22

主分类号：G02F1/13363(2006.01)I

申请/专利权人:上海交通大学

发明/设计人:李燕;苏翼凯

主申请人地址:200240 上海市闵行区东川路800号

专利代理机构:上海汉声知识产权代理有限公司 31236

代理人:黄超宇%胡晶

国别省市代码:上海;31

权利要求：

1.一次曝光实现任意分布的光取向装置，其特征在于，包括在空间上顺序摆放的光源、线性极化膜、像素化电控相位延迟器件和相位延迟波片，其中：所述光源用于提供光取向曝光所需的光；所述线性极化膜用于将所述光源发出的光变成极化方向与线性极化膜透光轴方向平行的线性极化光；所述像素化电控相位延迟器件的每个像素的相位延迟由对应的电压分别控制，用于产生任意图形分布的相位延迟；所述相位延迟波片用于产生非像素化的相位延迟。