一种提高产品纯度的等离子金属冶炼还原装置

摘要：

本实用新型公开一种提高产品纯度的等离子金属冶炼还原装置，包括熔炼通道、熔炼炉和防护室，所述熔炼通道出口端承接设置熔炼炉，所述熔炼通道出口端与熔炼炉均设置在防护室内；所述熔炼通道包括内腔管、隔离管、外防护管和射流给料管，所述外防护管内设置隔离管，所述隔离管内设置内腔管，所述内腔管内设置射流给料管，所述射流给料管的出口端设置等离子发生线圈、且等离子发生线圈设置在内腔管和隔离管之间。本实用新型通过高频电源提供给无电极等离子发生器，得到纯的等离子体，在保护气体存在下进行对金属氧化物或非金属熔炼，在熔炼过程中由中频加热电源和接受器（保温线圈）进行保温，再度熔渣分离，能够浇铸出纯度很高的金属或非金属的型材。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN201820779229.3

申请日期：2018-05-24

公开/公告号：CN208238527U

公开/公告日：2018-12-14

主分类号：F27B14/06(2006.01)I

申请/专利权人:刘冠诚

发明/设计人:刘冠成

主申请人地址:679200 云南省德宏傣族景颇族自治州梁河县河西乡丝光坪村

专利代理机构:昆明润勤同创知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 53205

代理人:王远同

国别省市代码:云南;53

权利要求：

1.一种提高产品纯度的等离子金属冶炼还原装置，其特征是：包括熔炼通道、熔炼炉（13）和防护室（16），所述熔炼通道出口端承接设置熔炼炉（13），所述熔炼通道出口端与熔炼炉（13）均设置在防护室（16）内；所述熔炼通道包括内腔管（3）、隔离管（4）、外防护管（5）和射流给料管（8），所述外防护管（5）内设置隔离管（4），所述隔离管（4）内设置内腔管（3），所述内腔管（3）内设置射流给料管（8），所述射流给料管（8）的出口端设置等离子发生线圈（10）、且等离子发生线圈（10）设置在内腔管（3）和隔离管（4）之间。