VCSEL阵列光源、图案投影仪及深度相机

摘要：

本实用新型公开了一种VCSEL阵列光源、图案投影仪及深度相机，VCSEL阵列光源包括：衬底；以及在衬底上以阵列形式排列的多个VCSEL光源；所述多个VCSEL光源形成的阵列排列包括中间区域以及密度小于中间区域的周边区域。通过采用不同密度分布的两个区域：中间区域以及密度小于中间区域的周边区域，利用该VCSEL阵列光源投影出的光束，可以为重叠图案投影仪提供光源硬件基础，进而可以有效解决因温度变化或制造误差所导致投射图案中产生缝隙从而降低深度图像质量的问题。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN201820536896.9

申请日期：2018-04-16

公开/公告号：CN208110249U

公开/公告日：2018-11-16

主分类号：G03B21/20(2006.01)I

申请/专利权人:深圳奥比中光科技有限公司

发明/设计人:许星;王兆民

主申请人地址:518000 广东省深圳市南山区学府路63号高新区联合总部大厦12楼

专利代理机构:深圳新创友知识产权代理有限公司 44223

代理人:程丹

国别省市代码:广东;44

权利要求：

1.一种VCSEL阵列光源，其特征在于，包括：衬底；以及在衬底上以阵列形式排列的多个VCSEL光源；所述多个VCSEL光源形成的阵列排列包括中间区域以及密度小于中间区域的周边区域。