一种分级控制构造的植草沟

摘要：

一种分级控制构造的植草沟，包括植草沟沟体，所述植草沟沟体的横断面采用梯形或者三角形，边坡比小于等于1:4；所述植草沟沟体的纵断面采用分级跌水构造，每一级纵向坡度小于等于2%；相邻级之间设有分级控制挡土墙；挡土墙的上顶面标高与相邻级中的上一级向平；所述植草沟的渗透性土层设置在2年重现期雨水径流水面线以下沟底下部。暗管系统每隔50m设置清扫口。本实用新型相较于其它形式的植草沟，在地形纵坡较大的条件下（弗劳德数Fr>0.5，流速ν>0.3m/s），所述植草沟能够有效降低雨水径流速度，促进雨水下渗，延长雨水径流时间，降低洪峰流量，所述植草沟能够充分发挥植草沟对雨水径流中污染物沉淀、过滤的作用。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN201820207656.4

申请日期：2018-02-06

公开/公告号：CN207934174U

公开/公告日：2018-10-02

主分类号：E03F5/14(2006.01)I

申请/专利权人:中信建筑设计研究总院有限公司

发明/设计人:李魏武;李祥华;李传志;胡鸣镝

主申请人地址:430014 湖北省武汉市江岸区四唯路8号

专利代理机构:武汉天力专利事务所 42208

代理人:程祥

国别省市代码:湖北;42

权利要求：

1.一种分级控制构造的植草沟，包括植草沟沟体，植草沟沟体具有渗透性土层、暗管系统、分级控制挡土墙和消能设施，其特征在于：所述植草沟沟体的横断面采用梯形或者三角形，边坡比小于等于1:4；所述植草沟沟体的纵断面采用分级跌水构造，每一级纵向坡度小于等于2%；相邻级之间设有分级控制挡土墙；分级控制挡土墙的上顶面标高与相邻级中的上一级向平，或者分级控制挡土墙的上顶面标高高于相邻级中的上一级地面标高，且小于2年重现期雨水径流水面线标高；所述植草沟的渗透性土层设置在2年重现期雨水径流水面线以下沟底下部，厚度不小于250cm；所述暗管系统采用DN100或DN150割缝管；暗管系统每隔50m设置清扫口。