光罩组件以及曝光装置

摘要：

本实用新型涉及显示技术领域，公开了一种光罩组件以及曝光装置，所述光罩组件(3)包括具有透光区域(300)和遮光区域(301)的光罩(30)以及至少覆盖所述透光区域(300)的第一偏光层(31)，所述光罩组件(3)还包括与所述光罩(30)相对设置且能够围绕垂直于所述光罩(30)的轴线旋转的偏光基板(32)。该光罩组件能够任意调节透过光罩的透光区域的光的透过率。在所述曝光装置中设置上述光罩组件(3)，能够改善制备工艺，例如可提高制备彩色滤光片中的不同的间柱层的效率。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN201720497643.0

申请日期：2017-05-05

公开/公告号：CN206725960U

公开/公告日：2017-12-08

主分类号：G03F1/00(2012.01)I

申请/专利权人:东旭（昆山）显示材料有限公司%东旭集团有限公司%东旭科技集团有限公司

发明/设计人:蔡财福

主申请人地址:215300 江苏省苏州市昆山市开发区前进中路167号1幢（国际大厦）1517屋

专利代理机构:北京润平知识产权代理有限公司 11283

代理人:李健%李翔

国别省市代码:江苏;32

权利要求：

一种光罩组件，其特征在于，所述光罩组件(3)包括具有透光区域(300)和遮光区域(301)的光罩(30)以及至少覆盖所述透光区域(300)的第一偏光层(31)，所述光罩组件(3)还包括与所述光罩(30)相对设置且能够围绕垂直于所述光罩(30)的轴线旋转的偏光基板(32)。