一种面状曝光系统及曝光部件

摘要：

本实用新型涉及紫外光应用技术领域，具体涉及一种面状曝光系统及曝光部件，所述面状曝光系统，包括光源组件，所述光源组件在曝光面内形成有面状光斑，所述光源组件存在有至少一条移动轨迹，以及存在有至少一个曝光行程，所述面状光斑对应的照射区域中存在有至少一个有效曝光区域，当所述光源组件沿所述移动轨迹移动一个所述曝光行程时，所述有效曝光区域内的任意一点或任意一区域的光照能量积分差值小于10%。本申请的面状曝光系统，保证了进行曝光工作时，待曝光区域中各个位置被曝光的均匀性，保证良好的曝光效果；而且，还进一步的消除了因光斑单元内部辐照强度不均匀而导致曝光不均匀的问题。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN201720474647.7

申请日期：2017-05-02

公开/公告号：CN206725963U

公开/公告日：2017-12-08

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:成都恒坤光电科技有限公司

发明/设计人:霍永峰

主申请人地址:610200 四川省成都市双流县西南航空港经济开发区物联网产业园区内

专利代理机构:四川力久律师事务所 51221

代理人:王芸%庞启成

国别省市代码:四川;51

权利要求：

一种面状曝光系统，其特征在于：包括光源组件，所述光源组件在曝光面内形成有面状光斑，所述光源组件存在有至少一条移动轨迹，以及存在有至少一个曝光行程，所述面状光斑对应的照射区域中存在有至少一个有效曝光区域，当所述光源组件沿所述移动轨迹移动一个所述曝光行程时，所述有效曝光区域内的任意一点或任意一区域的光照能量积分，积分后在有效曝光区域内任意一点或任意一区域的光照能量积分差值小于10%。