一种实现均匀压印的纳米压印设备
本实用新型公开了一种实现均匀压印的纳米压印设备,包括中央控制单元、放置模板或基板的托板、中间安装有透明模板的承压板,所述透明模板的上方设有紫外线照射灯,所述承压板置于所述托板的上方,所述托板的侧面安装有不少于三个支撑板,支撑板的端面和托板的端面平行,所述承压板的侧面安装有和支撑板相对应设置的直线位移传感器,所述托板的底部安装有不少于三个用于带动所述托板做上下往复移动的上下移动装置,所述上下移动装置和所述支撑板对应设置;相对于现有技术,本实用新型保证了承压板和托板之间的距离始终一致,实现均匀压印。
实用新型
CN201720471306.4
2017-05-01
CN206725961U
2017-12-08
G03F7/00(2006.01)I
青岛天仁微纳科技有限责任公司
冀然
266000 山东省青岛市城阳区长城路89号青岛博士创业园21A号楼407、408室
山东;37
一种实现均匀压印的纳米压印设备,包括中央控制单元,其特征在于:还包括放置模板或基板的托板、中间安装有透明模板的承压板,所述透明模板的上方设有紫外线照射灯,所述承压板置于所述托板的上方,所述托板的侧面安装有不少于三个支撑板,支撑板的端面和托板的端面平行,所述承压板的侧面安装有和支撑板相对应设置的直线位移传感器,直线位移传感器的检测杆与所述支撑板垂直,所述托板的底部安装有不少于三个用于带动所述托板做上下往复移动的上下移动装置,所述上下移动装置和所述支撑板对应设置;所述直线位移传感器和所述中央控制单元做电连接,所述上下移动装置和所述中央控制单元做电连接。