一种真空纳米压印设备

摘要：

本实用新型公开了一种真空纳米压印设备，包括机台，所述机台上安装有用于固定基板的托板，所述托板中安装有加热装置，软膜将托盘、基板、模板和真空吸气口盖住，用罩体将软膜固定在机台上，分别形成软膜内的第一密闭腔，软膜和罩体之间的第二密闭腔；启动真空泵将第一密闭腔的空气抽走使其形成真空状态，软膜紧紧的覆盖在模板和基板上，避免了模板和基板之间气泡的产生；启动充气泵，使得第二密闭腔内开始增压，模板在压力的作用下，其上的纳米结构均匀地压入到基板上的液态光刻胶中，实现了纳米结构的转印。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN201720471295.X

申请日期：2017-05-01

公开/公告号：CN206788551U

公开/公告日：2017-12-22

主分类号：G03F7/00(2006.01)I

申请/专利权人:青岛天仁微纳科技有限责任公司

发明/设计人:冀然

主申请人地址:266000 山东省青岛市城阳区长城路89号青岛博士创业园21A号楼407、408室

国别省市代码:山东;37

权利要求：

一种真空纳米压印设备，包括机台，所述机台上安装有用于放置基板的托板，所述托板中安装有加热装置，其特征在于：还包括用于将放置在托板上的基板和放置在基板上的模板罩住形成第一密闭腔的软膜，所述第一密闭腔连通有使其形成真空状态的真空泵，还包括置于机台上方的罩体，所述罩体上安装有用于使罩体内增压的充气泵。