一种烘干装置、光刻设备

摘要：

本实用新型实施例提供一种烘干装置、光刻设备，涉及显示技术领域，用于降低烘干装置内的气体与外部空气接触的几率。该烘干装置包括具有传送开口的腔室壁、以及可关合所述传送开口的腔室门。烘干装置还包括位于腔室壁与所述腔室门所围成的腔室内的气体循环导向件，气体循环导向件设置于传送开口位置处的上侧和/或下侧；气体循环导向件包括抽风器件，抽风器件用于将由气体循环导向件的气体入口进入的气体抽送至气体循环导向件的气体出口，气体循环导向件用于将传送开口位置处的气体导向至腔室内。烘干装置可用于对光刻胶进行后烘工序。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN201720466837.4

申请日期：2017-04-28

公开/公告号：CN206757298U

公开/公告日：2017-12-15

主分类号：G03F7/40(2006.01)I

申请/专利权人:北京京东方显示技术有限公司%京东方科技集团股份有限公司

发明/设计人:金宰弘;朱杰;石岩;张富强

主申请人地址:100176 北京市大兴区北京市经济技术开发区经海一路118号

专利代理机构:北京中博世达专利商标代理有限公司 11274

代理人:申健

国别省市代码:北京;11

权利要求：

一种烘干装置，包括具有传送开口的腔室壁、以及可关合所述传送开口的腔室门，其特征在于，还包括：位于所述腔室壁与所述腔室门所围成的腔室内的气体循环导向件，所述气体循环导向件设置于所述传送开口位置处的上侧和/或下侧；所述气体循环导向件包括抽风器件，所述抽风器件用于将由所述气体循环导向件的气体入口进入的气体抽送至所述气体循环导向件的气体出口，所述气体循环导向件用于将所述传送开口位置处的气体导向至所述腔室内。