实时测量紫外光强度的硅片光刻机

摘要：

本申请公开了一种实时测量紫外光强度的硅片光刻机，包括紫外光遮罩体，该紫外光遮罩体具有一光刻腔体，光刻腔体内上下依次设置有照明系统、掩膜台系统和自动对准系统，照明系统包括紫外光源和紫外辐射照计模块，紫外光遮罩体上设置有操作面板，该操作面板包括紫外线强度显示窗口，紫外光遮罩体开设有样品取置窗口，该取置窗口遮盖有紫外光隔离门。本新型在光源附近设置紫外辐射照计模块，用于实时测量和查看紫外线的强度，比现有的光刻机增加了光强参数，具有及时更换紫外灯，增加了曝光的成功率的优势，另外，本新型的光刻机设置了保护系统，避免了曝光过程中紫外光对人体及环境产生伤害，具有人性化、绿色的优点。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN201720270642.2

申请日期：2017-03-20

公开/公告号：CN206638949U

公开/公告日：2017-11-14

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:苏州汶颢微流控技术股份有限公司

发明/设计人:刘珊珊

主申请人地址:215000 江苏省苏州市苏州工业园区方洲路128号1区A栋

专利代理机构:南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256

代理人:王锋

国别省市代码:江苏;32

权利要求：

一种实时测量紫外光强度的硅片光刻机，其特征在于，包括紫外光遮罩体，该紫外光遮罩体具有一光刻腔体，所述光刻腔体内上下依次设置有照明系统、掩膜台系统和自动对准系统，所述照明系统包括紫外光源和紫外辐射照计模块，所述紫外光遮罩体上设置有操作面板，所述紫外辐射照计模块连接于所述照明系统，该操作面板包括紫外线强度显示窗口，所述紫外光遮罩体开设有样品取置窗口，该取置窗口遮盖有紫外光隔离门。