具有薄膜图案的基板

摘要：

本实用新型提供一种具有薄膜图案的基板，所述具有薄膜图案的基板包含：一基板；至少一薄膜图案层，配置于该基板上；及一周边图案层，配置于该基板上，无缝地环绕于该薄膜图案层。本实用新型运用光阻掀离制程的技术手段，来实现一次光罩、无蚀刻或一次蚀刻的技术功效，并达到无缝薄膜图案制作的特殊技术功效。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN201720250611.0

申请日期：2017-03-15

公开/公告号：CN206627757U

公开/公告日：2017-11-10

主分类号：G03F1/68(2012.01)I

申请/专利权人:许铭案

发明/设计人:许铭案

主申请人地址:中国台湾苗栗县头份镇中华路442-1号

专利代理机构:北京汇泽知识产权代理有限公司 11228

代理人:毛广杰

国别省市代码:台湾;71

权利要求：

一种具有薄膜图案的基板，其特征在于，包含：一基板；至少一薄膜图案层，配置于该基板上；及一周边图案层，配置于该基板上，无缝地环绕于该薄膜图案层。