光源装置及投影系统

摘要：

本实用新型保护一种光源装置，包括第一光源、光引导系统和波长转换装置；第一光源发射第一激发光，沿入射光通道入射至光引导系统；光引导系统将第一激发光引导至波长转换装置；波长转换装置包括波长转换区段和反射区段，波长转换区段吸收第一激发光并出射受激光，第一激发光斜入射至反射区段的表面，被反射后形成第二激发光；光引导系统还用于收集受激光和第二激发光，并引导受激光和第二激发光沿出射光通道出射；光引导系统包括光路校正组件，光路校正组件位于第二激发光的光路上，用于反射第二激发光，并使反射后的第二激发光的主光轴与受激光的主光轴重合，还用于改变第二激发光的光束角分布。本实用新型还保护一种投影系统。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN201720246632.5

申请日期：2017-03-14

公开/公告号：CN206610072U

公开/公告日：2017-11-03

主分类号：G03B21/20(2006.01)I

申请/专利权人:深圳市光峰光电技术有限公司

发明/设计人:胡飞;郭祖强;杜鹏;米麟;李屹

主申请人地址:518055 广东省深圳市南山区茶光路1089号深圳集成电路设计应用产业园401

国别省市代码:广东;44

权利要求：

一种光源装置，其特征在于，包括第一光源、光引导系统和波长转换装置；所述第一光源用于发射第一激发光，所述第一激发光沿入射光通道入射至所述光引导系统；所述光引导系统用于将所述第一激发光引导至所述波长转换装置；所述波长转换装置包括波长转换区段和反射区段，所述波长转换装置周期性运动以使得所述波长转换区段和反射区段分时周期性地位于第一激发光的光路上，所述波长转换区段吸收所述第一激发光并出射受激光，所述第一激发光斜入射至所述反射区段的表面，被反射后形成第二激发光；所述光引导系统还用于收集所述受激光和第二激发光，并引导所述受激光和第二激发光沿出射光通道出射；其中，所述光引导系统包括光路校正组件，所述光路校正组件位于所述第二激发光的光路上，用于反射所述第二激发光，并使反射后的第二激发光的主光轴与所述受激光的主光轴重合，还用于改变第二激发光的光束角分布，使所述第二激发光与所述受激光在沿光束传播方向上的成像位置重合。