一种接近式曝光装置

摘要：

本实用新型实施例提供一种接近式曝光装置，涉及显示技术领域，能够调节不同区域的曝光光线的透过率，使得整个曝光区域的照度更加均一化。所述接近式曝光装置包括用于提供曝光光线的光源，以及设置在曝光光线的光路上的光线开关件、滤光器、复眼透镜、凹面镜和曝光基台，其中，光线开关件用于允许或阻挡曝光光线的通过，滤光器用于透射预设波段的曝光光线，复眼透镜包括在二维方向上分布的多个子眼单元，还包括：调光面板，调光面板位于复眼透镜和滤光器之间或复眼透镜和凹面镜之间的光路上；调光面板包括在二维方向上分布的多个调光单元，每个调光单元在不同的工作电压下具有不同的光线透过率。本实用新型用于基板曝光。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN201720190317.5

申请日期：2017-02-28

公开/公告号：CN206479771U

公开/公告日：2017-09-08

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:京东方科技集团股份有限公司%成都京东方光电科技有限公司

发明/设计人:代伟男

主申请人地址:100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

专利代理机构:北京中博世达专利商标代理有限公司 11274

代理人:申健

国别省市代码:北京;11

权利要求：

一种接近式曝光装置，包括用于提供曝光光线的光源，以及设置在所述曝光光线的光路上的光线开关件、滤光器、复眼透镜、凹面镜和曝光基台，其中，所述光线开关件用于允许或阻挡所述曝光光线的通过，所述滤光器用于透射预设波段的曝光光线，所述复眼透镜包括在二维方向上分布的多个子眼单元，其特征在于，还包括：调光面板，所述调光面板位于所述复眼透镜和所述滤光器之间或所述复眼透镜和所述凹面镜之间的光路上；所述调光面板包括在二维方向上分布的多个调光单元，每个所述调光单元在不同的工作电压下具有不同的光线透过率。