一种曝光内层板的对位标定装置及应用其的曝光机

摘要：

本实用新型是一种曝光内层板的对位标定装置，包括平台和曝光标定装置，所述平台表面设置有安装孔，所述曝光标定装置安装于安装孔内，所述曝光标定装置包括有两组，两组所述曝光标定装置分别靠近平台任意相邻的边缘设置。该对位标定装置，将曝光标定装置分为两组安装于平台内，两组曝光标定装置分别靠近平台任意相邻的两个边缘设置，满足了在XY方向上分别能曝光对位的要求，保证了在XY方向上曝光图形涨缩值的一致性，提高了曝光标定的精度。本实用新型还设计了应用该对位标定装置的曝光机。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN201720092909.3

申请日期：2017-01-24

公开/公告号：CN206557530U

公开/公告日：2017-10-13

主分类号：G03F9/00(2006.01)I

申请/专利权人:苏州微影激光技术有限公司

发明/设计人:蔡志国;朱俊伟;吴斌;罗宜清;张显峰;张兴旺

主申请人地址:215009 江苏省苏州市高新区火炬路85号

专利代理机构:深圳市合道英联专利事务所(普通合伙) 44309

代理人:廉红果

国别省市代码:江苏;32

权利要求：

一种曝光内层板的对位标定装置，其特征在于，包括平台和曝光标定装置，所述平台表面设置有安装孔，所述曝光标定装置安装于安装孔内，所述曝光标定装置包括有两组，两组所述曝光标定装置分别靠近平台任意相邻的边缘设置。