光学加工系统

摘要：

本申请公开了一种光学加工系统，该系统包括沿光路方向依次设置的照明光源、空间光调制器、微透镜阵列和成像透镜，所述空间光调制器位于所述微透镜阵列的前焦面，所述成像透镜的前焦面与所述微透镜阵列的后焦面重合，所述空间光调制器为振幅型，具有二维分布的多个图块，所述微透镜阵列包括分布于同一平面内的多个微透镜，每个所述微透镜分别在主光轴方向上与一个所述图块对应。利用本实用新型系统和方法，至少具有以下优点：无机械运动机构，响应快速可靠；设备性能更优；图形轮廓清晰；可以获得多种干涉图案。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN201720082440.5

申请日期：2017-01-20

公开/公告号：CN206573851U

公开/公告日：2017-10-20

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:李继刚

发明/设计人:李继刚

主申请人地址:215123 江苏省苏州市苏州工业园区苏州大道东381号商旅大厦6楼903室

专利代理机构:宁波高新区核心力专利代理事务所(普通合伙) 33273

代理人:袁丽花

国别省市代码:江苏;32

权利要求：

一种光学加工系统，其特征在于，包括沿光路方向依次设置的照明光源、空间光调制器、微透镜阵列和成像透镜，所述空间光调制器位于所述微透镜阵列的前焦面，所述成像透镜的前焦面与所述微透镜阵列的后焦面重合，所述空间光调制器为振幅型，具有二维分布的多个图块，所述微透镜阵列包括分布于同一平面内的多个微透镜，每个所述微透镜分别在主光轴方向上与一个所述图块对应。