亚微米级3D打印光学系统

摘要：

本实用新型属于3D打印技术领域，具体为亚微米级3D打印光学系统。亚微米级3D打印光学系统，包括依次按照在同一光线路上的DLP投影光机、远心镜头、定焦镜头、反射镜；反射镜的反射光线路上有投影物镜，投影物镜上方有照相物镜。本实用新型提供的一种亚微米级3D打印光学系统，是采用多光学系统级联，简化了现有光固化3D打印机光学系统的设计，设备成本降低，并可以实现更稳定的成型品质；使DLP投影出亚微米级别的图形，从而打印出亚微米精度的三维模型。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN201720080201.6

申请日期：2017-01-18

公开/公告号：CN206489371U

公开/公告日：2017-09-12

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:深圳摩方新材科技有限公司

发明/设计人:胡九龙;贺晓宁;方雷;周建林;朱祺楼

主申请人地址:518000 广东省深圳市龙华新区观澜街道观湖南大富社区虎地排117号锦绣科学园7号楼5楼

专利代理机构:深圳市科吉华烽知识产权事务所(普通合伙) 44248

代理人:胡玉

国别省市代码:广东;44

权利要求：

亚微米级3D打印光学系统，其特征在于，包括依次按照在同一光线路上的DLP投影光机（1）、远心镜头（2）、定焦镜头（3）、反射镜（4）；反射镜（4）的反射光线路上有投影物镜（5），投影物镜（5）上方有照相物镜（6）。