多功能曝光平台

摘要：

本实用新型提供一种多功能曝光平台，包括控制单元以及依次相接设置的滚轮上料机构、平台主体与滚轮下料机构，平台主体的上方设有导向推板机构，导向推板机构包括开口方向面向滚轮上料机构所在一侧的L型导向推板以及驱动L型导向推板在平台主体上方分别沿X轴方向及Y轴方向平移的XY平面运动机构，L型导向推板包括相互垂直设置的X轴方向推板及Y轴方向推板，X轴方向推板面向滚轮上料机构的一侧设有到位检测结构，平台主体包括气浮吸附一体平面，且平台主体的底侧设有若干升降支脚，控制单元分别与XY平面运动机构、到位检测结构以及若干升降支脚电性连接，X轴方向平行于滚轮上料结构的送料方向，Y轴方向垂直于滚轮上料结构的送料方向。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN201720028198.3

申请日期：2017-01-11

公开/公告号：CN206470537U

公开/公告日：2017-09-05

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:深圳市大川光电设备有限公司

发明/设计人:戴童庆;代毓平

主申请人地址:518000 广东省深圳市宝安区西乡街道西乡内环路蚝业物流园A栋9号门2楼

专利代理机构:北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350

代理人:汤东凤

国别省市代码:广东;44

权利要求：

一种多功能曝光平台，其特征在于，包括控制单元以及依次相接设置的滚轮上料机构、平台主体与滚轮下料机构，所述平台主体的上方设有导向推板机构，所述导向推板机构包括开口方向面向所述滚轮上料机构所在一侧的L型导向推板以及驱动所述L型导向推板在所述平台主体上方分别沿X轴方向及Y轴方向平移的XY平面运动机构，所述L型导向推板包括相互垂直设置的X轴方向推板及Y轴方向推板，所述X轴方向推板面向所述滚轮上料机构的一侧设有到位检测结构，所述平台主体包括气浮吸附一体平面，且所述平台主体的底侧设有若干升降支脚，所述控制单元分别与所述XY平面运动机构、所述到位检测结构以及所述若干升降支脚电性连接，所述X轴方向平行于所述滚轮上料结构的送料方向，所述Y轴方向垂直于所述滚轮上料结构的送料方向。