一种基于可升降平台的辊对平面紫外纳米压印装置及方法
本发明涉及一种基于可升降平台的辊对平面紫外纳米压印装置及方法,属于紫外纳米压印光刻领域。调节装置通过螺钉固定在主机架上部的滑块三和滑块四上,可升降平台的步进电机一固定于机架内部,并通过与支撑杆轴承配合固定于机架上,工作平台的Y轴工作平台方向指向可升降平台,工作平台通过螺钉固定于机架中央的底板上,运输装置一和运输装置二通过螺栓分别固定于机架的两侧,紫外灯固定于机架的支撑梁上,干蚀刻装置与机架由螺钉连接,固定于机架右侧的通道中。优点是结构新颖,压印装置相较于以往的滚对平面压印装置有更高的生产效率;使得模板与衬底更好的共形接触;减少了紫外曝光过程中热应力较大对模板和衬底的损伤。
发明专利
CN201710838372.5
2017-09-17
CN107367901A
2017-11-21
G03F7/00(2006.01)I
长春工业大学
谷岩;林洁琼;张群;陈斯;韩小龙;李景鹏;孙慧岩;郭海龙;田旭;易正发;曹东旭
130000 吉林省长春市延安大街2055号
吉林长春新纪元专利代理有限责任公司 22100
魏征骥
吉林;22
一种基于可升降平台的辊对平面紫外纳米压印装置,其特征在于:包括调节装置,滚筒装置,可升降平台,运输装置一,工作平台,紫外灯,干刻蚀装置,运输装置二,机架,其中,调节装置通过螺钉固定在主机架上部的滑块三和滑块四上,可升降平台的步进电机一固定于机架内部,并通过与支撑杆轴承配合固定于机架上,工作平台的Y轴工作平台方向指向可升降平台,工作平台通过螺钉固定于机架中央的底板上,运输装置一和运输装置二通过螺栓分别固定于机架的两侧,紫外灯固定于机架的支撑梁上,干蚀刻装置与机架由螺钉连接,固定于机架右侧的通道中。