一种光掩模清洗工艺

摘要：

一种光掩模清洗工艺，包括：脱膜；先将光掩模固定在清洗机台上，然后将带有真空保护罩吸头的保护罩放在光掩模板上，抽真空，当压力达到10^‑1～10^‑3Pa时停止抽真空；利用干法或/和湿法清洗光掩模上的残胶，清洗完后用高纯水冲洗光掩模数次；向保护罩中注入气体使保护罩和光掩模分离，然后将光掩模除胶保护罩移走；先用高纯水超声冲洗光掩模，然后用光照射光掩模，重复光照射和超声冲洗数次，最后再用高纯水超声冲洗光掩模。本发明的优点在于可显著提高光掩模使用寿命，大幅降低光罩成本。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201710728019.1

申请日期：2017-08-23

公开/公告号：CN107490933A

公开/公告日：2017-12-19

主分类号：G03F1/82(2012.01)I

申请/专利权人:长江存储科技有限责任公司

发明/设计人:张坤;刘藩东;夏志良

主申请人地址:430074 湖北省武汉市洪山区东湖开发区关东科技工业园华光大道18号7018室

专利代理机构:北京辰权知识产权代理有限公司 11619

代理人:佟林松

国别省市代码:湖北;42

权利要求：

一种光掩模清洗工艺，其特征在于，所述工艺包括：脱膜：去除光掩模表面的保护薄膜；抽真空：先将光掩模固定在清洗机台上，然后将带有真空保护罩吸头的保护罩放在光掩模板上，抽真空，当压力达到10^‑1～10^‑3Pa时停止抽真空；去胶质：利用干法或/和湿法清洗光掩模上的残胶一定时间，清洗完后用高纯水冲洗光掩模数次；充气、移走保护罩：向保护罩中注入气体使保护罩和光掩模分离，然后将光掩模除胶保护罩移走；清洗：先用高纯水超声冲洗光掩模，然后用光照射光掩模，重复光照射和超声冲洗数次，最后再用高纯水超声冲洗光掩模。