一种厚光刻胶高均匀性坚膜方法

摘要：

本发明公开了一种厚光刻胶高均匀性坚膜方法，该方法包括:将涂胶晶圆水平放置在热板或热台上，在第一阶段，单次定时顺时针旋转晶圆，旋转晶圆180°后低温烘烤光刻胶；在第二阶段，定时顺时针旋转晶圆，旋转晶圆90°后高温烘烤光刻胶；在第三阶段，按多段式定时逆时针旋转晶圆，高温保温过程中，每次旋转晶圆90°后烘烤光刻胶；在第四阶段，不旋转晶圆,使光刻胶自然冷却降温至室温。本发明利用光刻胶的材料黏度特性及自流平特性,多段式定时旋转晶圆,阶段调整提高光刻胶的厚度均匀性。该方法显著提高了光刻工艺的流畅性,也避免了类似机械抛光整平工艺带来的脱胶颗粒污染问题,并有助于降低使用成本。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201710661630.7

申请日期：2017-08-04

公开/公告号：CN107515516A

公开/公告日：2017-12-26

主分类号：G03F7/16(2006.01)I

申请/专利权人:上海超导科技股份有限公司

发明/设计人:郭旭红;陈和峰;苏玛莉

主申请人地址:201203 上海市浦东新区芳春路400号1幢3层301-15室

专利代理机构:上海汉声知识产权代理有限公司 31236

代理人:郭国中

国别省市代码:上海;31

权利要求：

一种厚光刻胶高均匀性坚膜方法，其特征在于，包括：将涂覆光刻胶的晶圆水平放置，在光刻胶坚膜的不同阶段，单次或多段式定时旋转晶圆调整晶圆角度,阶段性调整提高光刻胶胶层的厚度均匀性。