一种显影方法及显影装置

摘要：

本发明提供一种显影方法及显影装置。所述显影方法包括：待显影基板移动至第一基台上时，控制设置于第一基台上方的第一喷嘴喷出显影喷淋液；其中所述显影喷淋液从所述第一喷嘴喷出的方向与待显影基板的子像素单元的长边方向相平行，且所述显影喷淋液从所述第一喷嘴喷出后流过所述待显影基板。该方法通过使第一喷嘴所喷出显影喷淋液的方向与基板上子像素单元的长边方向平行，保证喷淋液在基板上流动时能够沿着子像素单元的长边方向，也即沿着待显影基板上子像素开口的长边方向，相较于现有技术，更能够提高喷淋液在基板上的流动性，达到提高对基板上色阻和显影液的冲洗效率的目的。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201710630338.9

申请日期：2017-07-28

公开/公告号：CN107179655A

公开/公告日：2017-09-19

主分类号：G03F7/30(2006.01)I

申请/专利权人:京东方科技集团股份有限公司%合肥京东方光电科技有限公司

发明/设计人:吴春晖;余世荣;孟庆勇

主申请人地址:100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

专利代理机构:北京银龙知识产权代理有限公司 11243

代理人:许静%刘伟

国别省市代码:北京;11

权利要求：

一种显影方法，其特征在于，包括：待显影基板移动至第一基台上时，控制设置于第一基台上方的第一喷嘴喷出显影喷淋液；其中所述显影喷淋液从所述第一喷嘴喷出的方向与待显影基板的子像素单元的长边方向相平行，且所述显影喷淋液从所述第一喷嘴喷出后流过所述待显影基板。