一种曝光机及其发光装置

摘要：

本发明公开了一种曝光机及其发光装置，该曝光机包括：发光装置；透镜机构，位于发光装置的出光侧，包括多个透镜，且多个透镜中的至少两个透镜存在至少部分重叠以形成重叠区；发光装置发出的第一光线经透镜机构的重叠区透射至曝光对象上，发光装置发出的第二光线经透镜机构的重叠区外的其他区域透射至曝光对象上；其中，第一光线的强度高于第二光线的强度。通过上述方式，本发明能够改善透镜机构重叠区射出的光线强度比其他区域射出的光线强度低的问题。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201710597926.7

申请日期：2017-07-20

公开/公告号：CN107179653A

公开/公告日：2017-09-19

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:武汉华星光电技术有限公司

发明/设计人:夏浩

主申请人地址:430070 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋

专利代理机构:深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280

代理人:钟子敏

国别省市代码:湖北;42

权利要求：

一种曝光机，其特征在于，包括：发光装置；透镜机构，所述透镜机构位于所述发光装置的出光侧，包括多个透镜，且所述多个透镜中的至少两个透镜存在至少部分重叠以形成重叠区；所述发光装置发出的第一光线经所述透镜机构的所述重叠区透射至曝光对象上，所述发光装置发出的第二光线经所述透镜机构的所述重叠区外的其他区域透射至所述曝光对象上；其中，所述发光装置发出的第一光线的强度高于所述发光装置发出的第二光线的强度。