一种曝光距离调整方法及装置

摘要：

本发明提出一种曝光距离调整方法及装置，其中，曝光距离调整方法包括：根据玻璃基板厚度，设定探测器的探测范围，若所需的目标曝光间距处于探测范围外，设定处于探测范围内的中介曝光间距。并在控制探测器依据探测范围探测曝光距离的过程中，控制曝光机调整曝光距离，直至探测器探测到的曝光距离达到中介曝光间距。再根据目标曝光间距与中介曝光间距的差值，继续控制曝光机调整曝光距离，以使调整后的曝光距离达到目标曝光间距。因此，可以通过设定排除玻璃厚度干扰波的探测范围，避免了探测器宕机情况的出现，从而实现了薄玻璃基板情况下的曝光距离调整。解决了现有技术中接近式曝光机难以完成薄玻璃基板的曝光工艺的技术问题。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201710596794.6

申请日期：2017-07-20

公开/公告号：CN107315322A

公开/公告日：2017-11-03

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:京东方科技集团股份有限公司%合肥鑫晟光电科技有限公司

发明/设计人:王辉;王志强;郭光龙;唐星;廖务义

主申请人地址:100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

专利代理机构:北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201

代理人:张润

国别省市代码:北京;11

权利要求：

一种曝光距离调整方法，其特征在于，包括以下步骤：根据玻璃基板厚度，设定探测器的探测范围；其中，所述玻璃基板厚度对应的干扰位置处于所述探测范围外；在目标曝光间距处于所述探测范围外的状态下，设定处于所述探测范围内的中介曝光间距；在控制所述探测器依据所述探测范围探测曝光距离的过程中，控制曝光机调整所述曝光距离，直至所述探测器探测到的所述曝光距离达到所述中介曝光间距；所述曝光距离为所述玻璃基板与掩膜版之间的距离；根据所述目标曝光间距与所述中介曝光间距的差值，继续控制所述曝光机调整所述曝光距离，以使调整后的所述曝光距离达到所述目标曝光间距。