制备高比表面积的光刻胶‑石墨烯材料的复合体系的方法

摘要：

本发明涉及一种制备光刻胶‑石墨烯材料的复合体系的方法，其包括：1)提供包含石墨烯材料和光刻胶的混合物；2)采用掩模图形版对由步骤1)得到的混合物进行曝光；和3)用显影液处理由步骤2)得到的曝光的材料以除去未交联部分，得到光刻胶‑石墨烯材料的复合体系，其中所述石墨烯材料选自石墨烯、氧化石墨烯及其混合物。本发明方法工艺简单且所得复合体系具有高比表面积。所得复合体系适用于制备催化剂载体、表面吸附材料和微传感器。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201710576149.8

申请日期：2017-07-14

公开/公告号：CN107367905A

公开/公告日：2017-11-21

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:北京师范大学

发明/设计人:邹应全;薛兵

主申请人地址:100875 北京市海淀区新街口外大街19号

专利代理机构:北京市中咨律师事务所 11247

代理人:李小梅%刘金辉

国别省市代码:北京;11

权利要求：

一种制备光刻胶‑石墨烯材料的复合体系的方法，其包括：1)提供包含石墨烯材料和光刻胶的混合物；2)采用掩模图形版对由步骤1)得到的混合物进行曝光；和3)用显影液处理由步骤2)得到的曝光的材料以除去未交联部分，得到光刻胶‑石墨烯材料的复合体系，其中所述石墨烯材料选自石墨烯、氧化石墨烯及其混合物。