曝光基台及曝光设备

摘要：

本发明公开一种曝光基台及曝光设备，属于显示技术领域。曝光基台包括：承载组件、缓冲组件和托举组件，承载组件具有承载面和与承载面相对的固定面，缓冲组件的一端和托举组件的一端均为固定端，缓冲组件的另一端和托举组件的另一端分别与承载组件固定连接，且缓冲组件和托举组件位于固定面所在侧；承载面用于承载基板，托举组件用于对承载组件进行托举，缓冲组件用于在托举组件托举承载组件的过程中，对承载组件进行缓冲。本发明解决了曝光基台的稳定性较低的问题，有助于提高曝光基台的稳定性。本发明用于曝光基台。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201710547959.0

申请日期：2017-07-06

公开/公告号：CN107121896A

公开/公告日：2017-09-01

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:京东方科技集团股份有限公司%合肥京东方光电科技有限公司

发明/设计人:井杨坤

主申请人地址:100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

专利代理机构:北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138

代理人:滕一斌

国别省市代码:北京;11

权利要求：

一种曝光基台，其特征在于，所述曝光基台包括：承载组件、缓冲组件和托举组件，所述承载组件具有承载面和与所述承载面相对的固定面，所述缓冲组件的一端和所述托举组件的一端均为固定端，所述缓冲组件的另一端和所述托举组件的另一端分别与所述承载组件固定连接，且所述缓冲组件和所述托举组件位于所述固定面所在侧；所述承载面用于承载基板，所述托举组件用于对所述承载组件进行托举，所述缓冲组件用于在所述托举组件托举所述承载组件的过程中，对所述承载组件进行缓冲。