应用于近场扫描光刻的高精度被动对准的柔性台

摘要：

本发明公开了一种应用于近场扫描光刻的高精度被动对准的柔性台，包括上端台面、下端台面、基底，上端台面与下端台面之间通过双正交柔性铰链连接，掩膜通过真空吸附腔吸附在下端台面上，再放置在基底上。双正交柔性铰链包括两个正交的正圆柔性铰链。运行过程中，一定的法向压力从掩膜版、基底接触面上给出，经部件内的各个铰链分散传递，从而使得固定于下端台面的掩膜与下部的基底实现动态的、被动的紧密接触，有效地提高了光刻装置的对准效率，由于不存在过多的光电传感器，可在不损失对准精度的条件下最快速的实现被动校准。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201710495565.5

申请日期：2017-06-26

公开/公告号：CN107102518A

公开/公告日：2017-08-29

主分类号：G03F9/00(2006.01)I

申请/专利权人:中国科学技术大学

发明/设计人:王亮;张亮;秦金;谭浩森;许凯

主申请人地址:230026 安徽省合肥市包河区金寨路96号

专利代理机构:北京凯特来知识产权代理有限公司 11260

代理人:郑立明%赵镇勇

国别省市代码:安徽;34

权利要求：

一种应用于近场扫描光刻的高精度被动对准的柔性台，其特征在于，包括上端台面、下端台面、基底，所述上端台面与下端台面之间通过双正交柔性铰链连接，掩膜通过真空吸附腔吸附在所述下端台面上，再放置在所述基底上。