一种光刻胶管路设计

摘要：

本发明涉及半导体技术领域，尤其涉及一种光刻胶管路设计，包括：光刻胶容器，放置于一温度控制室内；光刻胶容器包括一进气口和一出胶口，进气口用于通入气体将光刻胶容器内的光刻胶从出胶口压出；第一管道，依次连接光刻胶容器的出胶口、一预存容器、一过滤器、一近端容器、一泵以及一喷头；第一管道外包裹有第二管道，第二管道用于通入加热介质对第一管道进行加热；上述技术方案的有益效果是：能够在不影响光刻胶的喷涂的同时提高光刻胶的使用有效期。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201710425257.5

申请日期：2017-05-25

公开/公告号：CN107121897A

公开/公告日：2017-09-01

主分类号：G03F7/30(2006.01)I

申请/专利权人:上海华力微电子有限公司

发明/设计人:朱治国;孙国庆

主申请人地址:201203 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号

专利代理机构:上海申新律师事务所 31272

代理人:俞涤炯

国别省市代码:上海;31

权利要求：

一种光刻胶管路设计，其特征在于，应用于光刻胶涂布机中；包括：光刻胶容器，放置于一温度控制室内；所述光刻胶容器包括一进气口和一出胶口，所述进气口用于通入气体将所述光刻胶容器内的光刻胶从所述出胶口压出；第一管道，依次连接所述光刻胶容器的出胶口、一预存容器、一过滤器、一近端容器、一泵以及一喷头；所述第一管道外包裹有第二管道，所述第二管道用于通入加热介质对所述第一管道进行加热。