压印光刻法、用于压印的主模板、线栅偏振器和显示基底

摘要：

提供了一种压印光刻法、由该压印光刻法制造的主模板、使用该主模板制造的线栅偏振器以及具有该线栅偏振器的显示基底。所述压印光刻法包括：在第一区域和第三区域中的基底上形成第一压印图案，其中，第三区域与第一区域分隔开；在第二区域中的基底上形成第一抗蚀剂图案，其中，第二区域与第一区域和第三区域相邻；通过使用第一压印图案和第一抗蚀剂图案作为蚀刻阻挡件蚀刻第一压印图案下方的元件，在第一区域和第三区域中形成第一图案；在第二区域中的基底上形成第二压印图案；在第一区域和第三区域中的基底上形成第二抗蚀剂图案；通过使用第二压印图案和第二抗蚀剂图案作为蚀刻阻挡件蚀刻第二压印图案下方的元件，在第二区域中形成第二图案。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201710300846.0

申请日期：2017-05-02

公开/公告号：CN107402498A

公开/公告日：2017-11-28

主分类号：G03F7/00(2006.01)I

申请/专利权人:三星显示有限公司

发明/设计人:朴昇元;金泰佑;谢磊;张大焕;李大荣;赵国来

主申请人地址:韩国京畿道龙仁市

专利代理机构:北京铭硕知识产权代理有限公司 11286

代理人:刘灿强%陈晓博

国别省市代码:韩国;KR

权利要求：

一种压印光刻法，所述压印光刻法包括以下步骤：在第一区域和第三区域中的基底上形成第一压印图案，其中，所述第三区域与所述第一区域分隔开；在第二区域中的所述基底上形成第一抗蚀剂图案，其中，所述第二区域与所述第一区域和所述第三区域相邻；通过使用所述第一压印图案和所述第一抗蚀剂图案作为蚀刻阻挡件来蚀刻所述第一压印图案下方的元件，在所述第一区域和所述第三区域中形成第一图案；在所述第二区域中的所述基底上形成第二压印图案；在所述第一区域和所述第三区域中的所述基底上形成第二抗蚀剂图案；以及通过使用所述第二压印图案和所述第二抗蚀剂图案作为蚀刻阻挡件来蚀刻所述第二压印图案下方的元件，在所述第二区域中形成第二图案。