对位装置及方法

摘要：

本公开是关于一种对位装置及方法，用于实现基板和掩膜版的对位；该对位装置包括：第一闭合线圈，设置于所述基板的第一对位区域中；第一磁极以及第二磁极，位于所述掩膜版的第一预设区域的两侧并生成第一磁场；其中，所述第一磁极以及所述第二磁极均与所述第一预设区域有间隙；第一电流传感器，与所述第一闭合线圈连接。该对位装置可以提高对位精度。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201710258236.9

申请日期：2017-04-19

公开/公告号：CN106950805A

公开/公告日：2017-07-14

主分类号：G03F9/00(2006.01)I

申请/专利权人:京东方科技集团股份有限公司%合肥鑫晟光电科技有限公司

发明/设计人:胡迎宾;袁广才;赵策;丁远奎;刘宁

主申请人地址:100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

专利代理机构:北京律智知识产权代理有限公司 11438

代理人:王辉%阚梓瑄

国别省市代码:北京;11

权利要求：

一种对位装置，用于实现基板和掩膜版的对位，其特征在于，包括：第一闭合线圈，设置于所述基板的第一对位区域中；第一磁极以及第二磁极，位于所述掩膜版的第一预设区域的两侧并生成第一磁场；其中，所述第一磁极以及所述第二磁极均与所述第一预设区域有间隙；第一电流传感器，与所述第一闭合线圈连接。