一种反射镜及曝光装置

摘要：

本发明公开了一种反射镜及曝光装置，包括透明衬底基质，位于透明衬底基质入光表面的用于反射设定波长光线的全电介质反射膜；其中，透明衬底基质中分散有能够受激发射设定波长光线的粒子。在透明衬底基质表面设置全电介质反射膜可以对设定波长的光线高效反射；而在反射镜的透明衬底基质中分散可受激辐射的粒子，可以将光源中其它波长的光线转化为设定波长的光线，增加了设定波长光线的出射，提高了对光源出射光的利用率，避免能源浪费。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201710249531.8

申请日期：2017-04-17

公开/公告号：CN106990677A

公开/公告日：2017-07-28

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:京东方科技集团股份有限公司%成都京东方光电科技有限公司

发明/设计人:向琛;徐钟国;李喆元

主申请人地址:100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

专利代理机构:北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291

代理人:郭润湘

国别省市代码:北京;11

权利要求：

一种反射镜，其特征在于，包括：透明衬底基质，位于所述透明衬底基质入光表面的用于反射设定波长光线的全电介质反射膜；其中，所述透明衬底基质中分散有能够受激发射所述设定波长光线的粒子。