具有多个屏蔽层的光掩模

摘要：

在一些实施例中，图案化的光刻胶具有多个屏蔽层。在一些实施例中，描述了用于掩模图案化的光掩模。光掩模包括位于透明层上方的相移层。光掩模还包括位于相移层上方的第一屏蔽层。第一屏蔽层具有第一厚度和第一光密度。光掩模还包括位于第一屏蔽层上方的第二屏蔽层。第二屏蔽层具有第二厚度和第二光密度。第二厚度小于第一薄度，并且第二光密度小于第一光密度。本发明实施例涉及具有多个屏蔽层的光掩模。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201710191261.X

申请日期：2017-03-28

公开/公告号：CN107290929A

公开/公告日：2017-10-24

主分类号：G03F1/76(2012.01)I

申请/专利权人:台湾积体电路制造股份有限公司

发明/设计人:涂志强;陈俊郎

主申请人地址:中国台湾新竹

专利代理机构:北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409

代理人:章社杲%李伟

国别省市代码:台湾;71

权利要求：

一种用于掩模图案化的光掩模，包括：相移层，位于透明层上方；第一屏蔽层，位于所述相移层上方，其中，所述第一屏蔽层具有第一厚度和第一光密度；以及第二屏蔽层，位于所述第一屏蔽层上方，其中，所述第二屏蔽层具有第二厚度和第二光密度，并且其中，所述第二厚度小于所述第一厚度，以及所述第二光密度小于所述第一光密度。