光罩结构及COA型阵列基板

摘要：

本发明提供一种光罩结构及COA型阵列基板。所述光罩结构包括中心遮光部(1)、包围所述中心遮光部(1)并与中心遮光部(1)的外轮廓形状一致的外围遮光部(3)、以及夹在所述外围遮光部(3)与中心遮光部(1)之间的环形的镂空狭缝(5)，曝光光线经过所述镂空狭缝(5)会发生衍射，产生传播反向的弯散及能量强度的渐变，配合负性光阻，能够使得最终制得的彩膜层过孔的坡度变缓，从而改善像素电极和金属材质的信号线之间的电连接质量，避免出现显示不良。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201710146792.7

申请日期：2017-03-13

公开/公告号：CN106773554A

公开/公告日：2017-05-31

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:武汉华星光电技术有限公司

发明/设计人:孙涛

主申请人地址:430070 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋

专利代理机构:深圳市德力知识产权代理事务所 44265

代理人:林才桂

国别省市代码:湖北;42

权利要求：

一种光罩结构，其特征在于，包括中心遮光部(1)、包围所述中心遮光部(1)并与中心遮光部(1)的外轮廓形状一致的外围遮光部(3)、以及夹在所述外围遮光部(3)与中心遮光部(1)之间的环形的镂空狭缝(5)。