承载装置和曝光设备

摘要：

本发明提供一种承载装置，包括承载台，所述承载台上设置有贯穿该承载台的升降通道，所述升降通道内设置有升降结构，所述升降结构与所述升降通道的内壁之间存在间隔，所述升降结构与所述升降通道的内壁之间还设置有光反射补偿块，所述光反射补偿块的顶面与所述承载台的承载面的光反射率之差、所述光反射补偿块的顶面与所述升降结构的顶面的光反射率之差均不大于预定阈值。相应地，本发明还提供一种曝光设备。本发明能够使得基板上不同位置的光刻胶曝光程度更加均匀。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201710129757.4

申请日期：2017-03-06

公开/公告号：CN106773553A

公开/公告日：2017-05-31

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:重庆京东方光电科技有限公司%京东方科技集团股份有限公司

发明/设计人:陈启超;周子卿;韩乾浩

主申请人地址:400714 重庆市北碚区水土高新技术产业园云汉大道7号

专利代理机构:北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112

代理人:姜春咸%陈源

国别省市代码:重庆;85

权利要求：

一种承载装置，包括承载台，所述承载台上设置有贯穿该承载台的升降通道，所述升降通道内设置有升降结构，所述升降结构与所述升降通道的内壁之间存在间隔，其特征在于，所述升降结构与所述升降通道的内壁之间还设置有光反射补偿块，所述光反射补偿块的顶面与所述承载台的承载面的光反射率之差、所述光反射补偿块的顶面与所述升降结构的顶面的光反射率之差均不大于预定阈值。