掩膜板

摘要：

本发明实施例提供一种掩膜板，包括：遮光区和透光区，所述掩膜板还包括：衍射区，所述衍射区设置在所述透光区中，用于使透射光衍射。本发明实施例的掩膜板，通过在透光区中设置衍射区，使透射光发生衍射，从而增强过孔处的曝光强度，消除过孔处光刻胶的残留，提高过孔的解析度，改善产品良品率。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201710090975.1

申请日期：2017-02-20

公开/公告号：CN106773524A

公开/公告日：2017-05-31

主分类号：G03F1/38(2012.01)I

申请/专利权人:京东方科技集团股份有限公司

发明/设计人:张锋

主申请人地址:100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

专利代理机构:北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319

代理人:苏培华

国别省市代码:北京;11

权利要求：

一种掩膜板，包括：遮光区和透光区，其特征在于，所述掩膜板还包括：衍射区，所述衍射区设置在所述透光区中，用于使透射光衍射。