一种曝光显影工艺

摘要：

本发明提供了一种曝光显影工艺，包括以下步骤：A)将基板进行清洗，在清洗后的基板表面涂布感光材料；B)将涂布后的基板进行预烤，在预烤后的基板表面再次涂布感光材料；C)将步骤B)得到的基板再次进行预烤，将预烤后的基板依次进行曝光与显影；D)将步骤C)得到的基板进行固烤。相比于现有工艺流程，其减少了一次曝光、一次显影、一次固烤与一次清洗上述四个步骤，而减少了工艺流程，提高了生产效率，且提高了制程良率。实验结果表明，本申请的曝光显影工艺针对白色玻璃盖板的曝光显影，良率可达95.5％以上，砂眼率低于1.1％，透光率低于1.5％，牙缺率低于1.9％。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201710081126.X

申请日期：2017-02-15

公开/公告号：CN106707688A

公开/公告日：2017-05-24

主分类号：G03F7/00(2006.01)I

申请/专利权人:蓝思科技（长沙）有限公司

发明/设计人:周群飞;饶桥兵;李隆东

主申请人地址:410311 湖南省长沙市经济技术开发区离湘路99号

专利代理机构:北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人:赵青朵

国别省市代码:湖南;43

权利要求：

一种曝光显影工艺，包括以下步骤：A)，将基板进行清洗，在清洗后的基板表面涂布感光材料；B)，将涂布后的基板进行预烤，在预烤后的基板表面再次涂布感光材料；C)，将步骤B)得到的基板再次进行预烤，将预烤后的基板依次进行曝光与显影；D)，将步骤C)得到的基板进行固烤。