光学邻近校正检验方法、设计堆叠存储器件的布局的方法及堆叠存储器件制造方法

摘要：

光学邻近校正(OPC)检验方法包括：检查在堆叠存储器件的布局中的第一图案的第一位置；根据第一位置计算第一图案的偏移值；获得第一位置与通过对于第一图案的OPC而形成的第二图案的第二位置之间的差值；以及基于偏移值和差值确定是否将要再次执行OPC。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201710075831.9

申请日期：2017-02-13

公开/公告号：CN107121889A

公开/公告日：2017-09-01

主分类号：G03F1/36(2012.01)I

申请/专利权人:三星电子株式会社

发明/设计人:金昶汎;金成勋;金祐呈;粱香子

主申请人地址:韩国京畿道

专利代理机构:北京市柳沈律师事务所 11105

代理人:翟然

国别省市代码:韩国;KR

权利要求：

一种光学邻近校正(OPC)检验方法，包括：检查在堆叠存储器件的布局中的第一图案的第一位置；根据所述第一位置计算所述第一图案的偏移值；获得所述第一位置与通过对于所述第一图案的光学邻近校正而形成的第二图案的第二位置之间的差值；以及基于所述偏移值和所述差值确定是否将要再次执行所述光学邻近校正。