一种曝光装置

摘要：

本发明提供一种曝光装置，其包括挡板组件和透镜组件，所述挡板组件设有曝光孔；所述透镜组件设置在所述挡板组件与待曝光基板之间，所述透镜组件用于将所述曝光孔的侧边产生的衍射光线会聚在所述待曝光基板的待曝光区域。该曝光装置可以较高曝光精确度，提升待曝光基板的曝光品质。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201710055343.1

申请日期：2017-01-22

公开/公告号：CN107065445A

公开/公告日：2017-08-18

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:武汉华星光电技术有限公司

发明/设计人:胡俊艳

主申请人地址:430079 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋

专利代理机构:深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300

代理人:黄威

国别省市代码:湖北;42

权利要求：

一种曝光装置，用于对待曝光基板进行曝光，其特征在于，包括：挡板组件和透镜组件，所述挡板组件设有曝光孔；所述透镜组件设置在所述挡板组件与所述待曝光基板之间，所述透镜组件用于将所述曝光孔的侧边产生的衍射光线会聚在所述待曝光基板的待曝光区域。