曝光方法

摘要：

本发明提供一种曝光方法，经由投影光学系统将来自光罩的图案的光束投射至配置有基板的投影区域，所述光罩配置于照明光的照明区域，所述曝光方法包括：在所述照明区域和所述投影区域中的一方区域中，以沿着以规定曲率弯曲成圆筒面状的第一面的方式来支承所述光罩和所述基板中的一方；在所述照明区域和所述投影区域中的另一方区域中，以沿着规定的第二面的方式来支承所述光罩和所述基板中的另一方；使该第一面所支承的所述光罩和所述基板中的一方沿着所述第一面旋转，使该第一面所支承的所述光罩和所述基板中的一方在扫描曝光方向上移动；和在所述基板的曝光面上，将在所述扫描曝光方向上包括两处最佳聚焦位置的光束投射至所述投影区域。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201710045631.9

申请日期：2014-05-02

公开/公告号：CN106896651A

公开/公告日：2017-06-27

主分类号：G03F7/24(2006.01)I

申请/专利权人:株式会社尼康

发明/设计人:加藤正纪

主申请人地址:日本东京都

专利代理机构:北京市金杜律师事务所 11256

代理人:陈伟%闫剑平

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

一种曝光方法，经由投影光学系统将来自光罩的图案的光束投射至配置有基板的投影区域，其中，所述光罩配置于照明光的照明区域，所述曝光方法的特征在于，包括：在所述照明区域和所述投影区域中的一方区域中，以沿着以规定曲率弯曲成圆筒面状的第一面的方式来支承所述光罩和所述基板中的一方；在所述照明区域和所述投影区域中的另一方区域中，以沿着规定的第二面的方式来支承所述光罩和所述基板中的另一方；使该第一面所支承的所述光罩和所述基板中的一方沿着所述第一面旋转，使该第一面所支承的所述光罩和所述基板中的一方在扫描曝光方向上移动；和在所述基板的曝光面上，将在所述扫描曝光方向上包括两处最佳聚焦位置的光束投射至所述投影区域。