一种掩膜板及其制作方法

摘要：

本申请实施例提供一种掩膜板及其制作方法，以简化掩模板的制作工艺，降低掩模板的制作成本。该掩模板的制作方法，包括：提供一透明衬底基板；在所述透明衬底基板上形成具有设定图案的遮光层，其中，具有设定图案的所述遮光层用于对光进行部分遮挡。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201710019557.3

申请日期：2017-01-10

公开/公告号：CN106773523A

公开/公告日：2017-05-31

主分类号：G03F1/32(2012.01)I

申请/专利权人:京东方科技集团股份有限公司

发明/设计人:张小磊

主申请人地址:100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

专利代理机构:北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291

代理人:黄志华

国别省市代码:北京;11

权利要求：

一种掩模板的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括：提供一透明衬底基板；在所述透明衬底基板上形成具有设定图案的遮光层，其中，具有设定图案的所述遮光层用于对光进行部分遮挡。