一种掩膜板、曝光装置及其进行曝光的方法

摘要：

本发明公开了一种掩膜板、曝光装置及其进行曝光的方法，该掩膜板包括：至少两个并排设置的用于形成单膜层图案的有效图形的掩膜图案区域，以及与各掩膜图案区域分别对应的至少两组对位标识；每组对位标识中包含的两个对位标识以对应的掩膜图案区域为中心对称设置。由于一个掩膜图案区域可以用于对应形成一个单膜层图案的有效图形，通过掩膜板中的至少两个并排设置的掩膜图案区域，即可形成至少两个单膜层图案的有效图形，并且以对应的掩膜图案区域为中心对称设置的每组对位标识中包含的两个对位标识，保证了单膜层图案的有效图形的位置精度。因此，有效减少了掩膜板的数量，从而降低了开发颠覆性创新设计的成本。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201710008479.7

申请日期：2017-01-05

公开/公告号：CN106707682A

公开/公告日：2017-05-24

主分类号：G03F1/42(2012.01)I

申请/专利权人:京东方科技集团股份有限公司%重庆京东方光电科技有限公司

发明/设计人:许卓;张逵;王孝林;白雅杰;汪锐;金在光;尚飞;邱海军

主申请人地址:100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

专利代理机构:北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291

代理人:朱琳爱义

国别省市代码:北京;11

权利要求：

一种掩膜板，其特征在于，包括：至少两个并排设置的用于形成单膜层图案的有效图形的掩膜图案区域，以及与各所述掩膜图案区域分别对应的至少两组对位标识；每组所述对位标识中包含的两个所述对位标识以对应的所述掩膜图案区域为中心对称设置。