图案形成方法和使用其制造的电子设备

摘要：

本发明提供一种能够得到抗蚀膜的各层间的密合性优异、赋予高精细的图案、阻气性和耐溶剂性高的层叠体的图案形成方法以及使用其制造的电子设备。一种图案形成方法，其包括：使用组合物在支承体上形成膜的工序(1)；对膜的规定部分照射活性能量射线而使规定部分的显影性发生变化的曝光工序(2)；将膜进行显影而得到图案的显影工序(3)，作为组合物，使用对于显影液的溶解性彼此不同的多种组合物，所得图案具有多层结构。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201680009871.7

申请日期：2016-02-23

公开/公告号：CN107250913A

公开/公告日：2017-10-13

主分类号：G03F7/095(2006.01)I

申请/专利权人:株式会社ADEKA

发明/设计人:村井俊彦;原宪司;入泽正福

主申请人地址:日本东京都

专利代理机构:北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人:刘新宇%李茂家

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

一种图案形成方法，其特征在于，其包括：使用组合物在支承体上形成膜的工序(1)；对所述膜的规定部分照射活性能量射线而使规定部分的显影性发生变化的曝光工序(2)；以及，将所述膜进行显影而得到图案的显影工序(3)，将所述工序(1)～(3)反复多次，作为所述组合物，使用对于显影液的溶解性彼此不同的多种组合物，所得图案具有多层结构。