一种掩模蚀刻去胶一体机

摘要：

本实用新型涉及一种掩模蚀刻去胶一体机，包括蚀刻机主体，所述蚀刻机主体的顶部设置有支撑柱，所述支撑柱上设置有保护罩，且支撑柱的一侧设置有X轴架，所述X轴架上安装有Y轴架，且X轴架上设置有滑轨，所述滑轨上设置有激光控制器，所述激光控制器上安装有X轴激光蚀刻头。本实用新型设置有X轴激光蚀刻头和Y轴激光蚀刻头，且其内部均设置有运动传感器，同时从两个方位对蚀刻位上的基体材料进行蚀刻处理，蚀刻速度快，在蚀刻的同时利用清洁剂喷头对基体材料喷射清洁剂，能够快速清洁基体材料，废渣、胶体和清洁液通过废液管进入废液收集箱，对其进行过滤处理后可循环使用清洁液，降低成本。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN201621444680.7

申请日期：2016-12-27

公开/公告号：CN206363075U

公开/公告日：2017-07-28

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:无锡中微掩模电子有限公司

发明/设计人:钱奇;周家万;张月圆

主申请人地址:214135 江苏省无锡市新区菱湖大道202号

专利代理机构:常州佰业腾飞专利代理事务所(普通合伙) 32231

代理人:康潇

国别省市代码:江苏;32

权利要求：

一种掩模蚀刻去胶一体机，其特征在于：包括蚀刻机主体(6)，所述蚀刻机主体(6)的顶部设置有支撑柱(3)，所述支撑柱(3)上设置有保护罩(4)，且支撑柱(3)的一侧设置有X轴架(14)，所述X轴架(14)上安装有Y轴架(13)，且X轴架(14)上设置有滑轨(15)，所述滑轨(15)上设置有激光控制器(1)，所述激光控制器(1)上安装有X轴激光蚀刻头(2)，所述Y轴架(13)上安装有Y轴激光蚀刻头(12)，所述蚀刻机主体(6)的上表面设置有蚀刻位(10)，所述蚀刻位(10)的底部设置有重量传感器(9)，且蚀刻位(10)的底部设置有废液管(7)，所述蚀刻机主体(6)的内部安装有废液收集箱(8)，所述激光控制器(1)的内部设置有核心处理器(16)，所述核心处理器(16)的一侧下方设置有编码器(17)，所述编码器(17)的一侧设置有数据存储器(18)，所述编码器(17)和数据存储器(18)的输出端均与核心处理器(16)的输入端电性连接。