投影装置及系统

摘要：

本实用新型提供了一种投影装置及系统，涉及光学成像领域，所述装置包括第一出光单元、第二出光单元、分光单元、匀光单元、反光镜、成像单元和镜头，分别从第一出光单元发出的第一光束和第二出光单元发出的第二光束均入射到所述分光单元，经分光单元合束形成第三光束，所述第三光束依次经过匀光单元和反光镜，再经成像单元接收的成像信号调制形成成像光束，所述成像光束入射到镜头，经镜头的放大处理后偏离镜头的主光轴输出，其中，所述成像光束的入射主光轴和所述镜头的主轴不共轴。与现有技术相比，通过设置反光镜使光路折转，缩小了整个光路系统的占用空间，而不共轴的成像光束和镜头使得投影装置的工作位置的选择范围更广。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN201621421267.9

申请日期：2016-12-22

公开/公告号：CN206460250U

公开/公告日：2017-09-01

主分类号：G03B21/20(2006.01)I

申请/专利权人:鲜善洪

发明/设计人:鲜善洪

主申请人地址:610000 四川省成都市彭州市天彭镇育才路980号

专利代理机构:北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371

代理人:宋南

国别省市代码:四川;51

权利要求：

一种投影装置，其特征在于，包括第一出光单元、第二出光单元、分光单元、匀光单元、反光镜、成像单元和镜头，分别从所述第一出光单元发出的第一光束和所述第二出光单元发出的第二光束均入射到所述分光单元，经所述分光单元合束形成第三光束，所述第三光束依次经过所述匀光单元和所述反光镜，再经所述成像单元接收的成像信号调制形成成像光束，所述成像光束入射到所述镜头，经所述镜头的放大处理后偏离所述镜头的主轴输出，其中，所述成像光束的入射主光轴和所述镜头的主轴不共轴。