一种激光光刻光学结构

摘要：

本实用新型公开了一种激光光刻光学结构，该结构包括光纤激光器、一体式结构的光束整形镜片组、反射镜、DMD芯片、投影镜片组，所述光纤激光器发出的光束依次通过光束整形镜片组、反射镜投射到DMD芯片，所述DMD芯片反射的光束通过投影镜片组投射到外部。本实用新型将光束整形光路与DMD芯片及投影镜片组一体化，极大的简化了曝光设备的光学引擎结构，不但方便后续的设备维护，也大大提升了设备的利用效率，间接的降低了生产成本，同时封闭的结构能避免激光对人眼的伤害，增加了设备使用过程中的安全性。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN201621379301.0

申请日期：2016-12-15

公开/公告号：CN206594447U

公开/公告日：2017-10-27

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:深圳凯世光研股份有限公司

发明/设计人:蔡志国;龚田;李小明

主申请人地址:518000 广东省深圳市宝安区西乡兴业路3012号老兵大厦西座二楼

专利代理机构:深圳市合道英联专利事务所(普通合伙) 44309

代理人:廉红果

国别省市代码:广东;44

权利要求：

一种激光光刻光学结构，其特征在于，该结构包括光纤激光器、以及一体式结构的光束整形镜片组、反射镜、DMD芯片、投影镜片组，所述光纤激光器发出的光束依次通过光束整形镜片组、反射镜投射到DMD芯片，所述DMD芯片反射的光束通过投影镜片组投射到外部。