一种曝光装置

摘要：

本实用新型公开了一种曝光装置，包括位于掩膜板的出光侧的图像采集单元和与图像采集单元连接的处理单元；图像采集单元用于采集曝光过程中由掩膜板的出射光呈现的掩膜板图像，将采集的掩膜板图像发送给处理单元；处理单元用于接收图像采集单元发送的掩膜板图像，将接收的掩膜板图像与预存的参考图像进行比较，在掩膜板图像与参考图像一致时确定掩膜板使用正确且掩膜板的表面无异物，在掩膜板图像与参考图像不一致时确定掩膜板使用错误和/或掩膜板的表面存在异物；这样，利用上述曝光装置进行曝光工艺的过程中，可以及时发现掩膜板使用错误和掩膜板表面存在异物的问题，从而可以及时停止曝光工艺并采取有效措施，进而可以提高显示面板的制作良率。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN201621248258.4

申请日期：2016-11-15

公开/公告号：CN206147257U

公开/公告日：2017-05-03

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:京东方科技集团股份有限公司%成都京东方光电科技有限公司

发明/设计人:曹中林;黄炜赟;陈中龙

主申请人地址:100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

专利代理机构:北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291

代理人:黄志华

国别省市代码:北京;11

权利要求：

一种曝光装置，其特征在于，包括：位于掩膜板的出光侧的图像采集单元和与所述图像采集单元连接的处理单元；其中，所述图像采集单元，用于采集曝光过程中由所述掩膜板的出射光所呈现的掩膜板图像，将采集的所述掩膜板图像发送给所述处理单元；所述处理单元，用于接收所述图像采集单元发送的所述掩膜板图像，将接收的所述掩膜板图像与预存的参考图像进行比较；在所述掩膜板图像与所述参考图像一致时，确定所述掩膜板使用正确且所述掩膜板的表面无异物；在所述掩膜板图像与所述参考图像不一致时，确定所述掩膜板使用错误和/或所述掩膜板的表面存在异物。