一种双面对位的曝光机对位台

摘要：

本实用新型公开了一种双面对位的曝光机对位台，包括底座、第一台板和第二台板，第一台板被第一驱动装置驱动相对于底座运动，第二台板被第二装置驱动相对于第一台板运动，也可以与第一台板一起同步运动，在第一台板上安有PCB板支撑架吸附固定件，在第二台板上安有下菲林框架吸附固定件。该对位台能够在不依赖通孔靶点、不翻转PCB板的情况下将PCB板分别与上下菲林进行对位，而且能够使体积更加紧凑，针对现有曝光机的有限空间直接替换原有对位机构，将原来需翻转PCB板进行的两次单面对位变成不翻转PCB板的双面对位。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN201621204869.9

申请日期：2016-11-09

公开/公告号：CN206133186U

公开/公告日：2017-04-26

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:保定来福光电科技有限公司

发明/设计人:张惠光

主申请人地址:071700 河北省保定市容城县县城东四公里津保公路南侧

国别省市代码:河北;13

权利要求：

一种双面对位的曝光机对位台，包括底座和第一台板，第一台板经第一转动件安装在第一滑动件上，第一滑动件安装在底座上，第一滑动件与第一驱动装置相连，其特征在于，第二台板经第二滑动件安装在第一台板上，第二台板经传动连接件与第二驱动装置相连，第二驱动装置与第一台板相固定，在第一台板上安有PCB板支撑架吸附固定件，在第二台板上安有下菲林框架吸附固定件。