一种掩膜板

摘要：

本实用新型提供了一种掩膜板，所述掩膜板包括：完全透光区和完全不透光区；在所述完全透光区和所述完全不透光区之间的交界位置形成有用于与掩膜形成的开口图案的边界斜坡位置相对应的能够使得光部分透过的部分透光区。本实用新型所提供的掩膜板设置部分透光区，可以对由该掩膜板掩膜形成的过孔(VIA)等开口图案的边界处斜坡的坡度进行控制改良，与现有技术中相比，过孔等开口图案斜坡的坡度缓和，通过对过孔等开口图案的边界位置处的斜坡形状进行改良，以降低过孔等开口图案边缘曝光能量，从而提高过孔等开口图案刻蚀设备管控，降低上层ITO层发生不良，防止出现各种相关产品问题，提高良率。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN201621175982.9

申请日期：2016-11-01

公开/公告号：CN206133181U

公开/公告日：2017-04-26

主分类号：G03F1/54(2012.01)I

申请/专利权人:合肥鑫晟光电科技有限公司%京东方科技集团股份有限公司

发明/设计人:吴四权;张心杰;陈号

主申请人地址:230011 安徽省合肥市新站区工业园内

专利代理机构:北京银龙知识产权代理有限公司 11243

代理人:许静%刘伟

国别省市代码:安徽;34

权利要求：

一种掩膜板；所述掩膜板包括：完全透光区和完全不透光区；其特征在于，在所述完全透光区和所述完全不透光区之间的交界位置形成有用于与掩膜形成的开口图案的边界斜坡位置相对应的能够使得光部分透过的部分透光区。